第78回 CVD研究会

第78回CVD研究会を京都大学桂キャンパスにて，研究室見学会および5名の講師の方をお招きしての講演会を開催いたします。多数の方々のご参加をお待ちしています。なお、講演会終了後の技術交流会の開催は見送ります。

日　　時 ：令和4年12月2日（金）10：30 ～17：00

開催形式 ：対面（一部オンラインでのご講演あり）
主　　催 ：CVD研究会
共　　催 ：京都大学工学研究科，化学工学会反応工学部会CVD反応分科会，
　　　化学プロセス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
協　　賛 ：近畿化学協会，表面技術協会，日本金属学会，化学工学会関西支部（予定）
場　　所 ：京都大学桂キャンパスA2棟305講義室（午前）, A2棟306講義室（午後）
参 加 費 ：CVD研究会会員 3,000円
　　　　　共催・協賛学協会会員(大学・国公研) 5,000円
　　　　　共催・協賛学協会会員(企業関係者) 10,000円
　　　　　学生　1,000円　　　　　　
　　　　　一般　15,000円
申込締切 ：令和4年12月1日（木）12時
参加費は、クレジットカード払いでお願いします。請求書払いを希望される場合は、事務局にご相談ください。

（お問い合わせ先）
　　 CVD研究会　（会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆）　e-mail: cvd@cheme.kyoto-u.ac.jp
　　 〒615-8510　京都市西京区京都大学桂　 　Tel： 075-383-2663, 　Fax： 075-383-2653
　　　　　　 （京都大学大学院工学研究科化学工学専攻反応工学分野内）

プログラム
10:30–11:30　研究紹介および研究室見学会
　　京都大学 材料化学専攻 教授　田中 勝久 氏
　　京都大学 化学工学専攻 教授　河瀬 元明 　
11:30–12:45　 昼休み
12:45–13:00　 令和4年度CVD研究会総会
13:00–13:50　「HiPIMS法によるDLC成膜技術の応用」 　　　
　　ナノテック株式会社　取締役　平塚 傑工 氏
13:50–14:40　「反応性物質の活用で拓くシリコン系CVDプロセスの可能性」
　　横浜国立大学 名誉教授 反応装置工学ラボラトリー　羽深 等 氏
14:40–14:50　 休憩
14:50–15:40　「不純物でスパッタ膜のモフォロジーを制御する　～アモルファスからエピ膜まで～」
　　九州大学 システム情報科学研究院 教授　板垣 奈穂 氏
15:40–16:30　「MOCVD法による強誘電体薄膜及びナノ構造の作製」
　　兵庫県立大学 工学研究科 電子情報工学専攻 教授　藤沢 浩訓 氏・中嶋 誠二 氏
16:30–17:00　 話題提供「Use of Direct Liquid Injection (DLI) vaporization for the CVD and the ALD of various materials for diverse applications」
　　KEMSTREAM　President　Herve Guillon 氏