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第82回 CVD研究会

2024-12-06(金)10:30 - 16:50 JST

京都経済センター4階

京都市下京区四条通室町東入函谷鉾町78番地

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CVD研究会会員 3,000円 前払い
共催学協会会員(大学・国公研) 5,000円 前払い
共催学協会会員(企業関係者) 10,000円 前払い
一般 15,000円 前払い
学生 1,000円 前払い
請求書払い(事務局にご連絡ください) 無料

10人の参加者

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8人のアカウント非公開の参加者

詳細

第82回CVD研究会を京都経済センターにて,6名の講師の方をお招きして開催いたします。
多数の方々のご参加をお待ちしています。

日  時 : 令和6年12月6日(金)10:30 ~17:00
場  所 : 京都経済センター4階 午前:4-D、午後:4-F
     https://keizai-center.kyoto/access/
共  催 : 化学工学会反応工学部会CVD反応分科会,
     化学プロセス研究コンソーシアム ナノ材料プロセス研究グループ
参 加 費 : CVD研究会会員 3,000円
     共催学協会会員(大学・国公研) 5,000円
     共催学協会会員(企業関係者) 10,000円
     一般 15,000円
     学生 1,000円
交流会費 : 4,000 円(当日集金します)
申込締切 : 令和6年11月29日(金)12時
 参加費は、クレジットカード払いでお願いします。
 請求書払いを希望される場合は、事務局にご相談ください。
 (お問い合わせ先)
   CVD研究会 (会長 河瀬元明, 事務局 影山美帆) e-mail: cvd@cheme.kyoto-u.ac.jp
   〒615-8510 京都市西京区京都大学桂   Tel: 075-383-2663,  Fax: 075-383-2653
   (京都大学大学院工学研究科化学工学専攻反応工学分野内)

プログラム
10:30–11:15 「Cat-CVDでの窒化Si膜堆積とその太陽電池応用」
 北陸先端科学技術大学院大学 先端科学技術研究科 教授 大平 圭介 氏

11:15–12:00 「ミストCVD法によるCr2O3基板への低欠陥Ga2O3成膜」
 日本ガイシ株式会社 研究開発本部 渡邊 守道 氏

12:00–13:30 昼休み
13:30–13:40 令和6年度CVD研究会総会

13:40–14:25 「PFAS規制に関して」
 日本フルオロケミカルプロダクト協議会(セントラル硝子株式会社) 瀬戸口 稔 氏
                                 名倉 裕力 氏

14:25–15:10 「原子層堆積法に向けた高反応性原料と供給方法」
 大陽日酸(株)  清水 秀治 氏

15:10–15:20 休憩

15:20–16:05 「機械学習を用いたエッチングプロセス開発における
データセット構築とエッチング形状最適化」
 (株)日立製作所 研究開発グループ 大森 健史 氏
                  森崎 諒 氏

16:05–16:50 「大気圧・準大気圧プラズマによる材料プロセス:プラズマ援用
インクジェット法および単結晶ダイヤモンドCVDの応用」
 産業技術総合研究所 新田 魁洲 氏

17:15–19:00 技術交流会(楽坐 青天家 ラクザハレルヤ)

コミュニティについて

CVD研究会

CVD研究会

CVD研究会は,主として non-electronic use の CVD (化学蒸着法,化学気相成長法) に関する研究発表と討論を,化学と材料の立場からおこなう学会です。 CVD研究会では,CVD に関する基礎講座,最新の国際会議報告,文献紹介,招待講演,会員の話題提供などのサービスが受けられます。 化学工学会 反応工学部会 CVD反応分科会とシンポジウムを共催しており,CVD研究会の...

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